Contact de bille en cuivre de tungstène

Contact de bille en cuivre de tungstène

introduction

Les contacts à billes sont largement utilisés en basse tension électrique, du point de vue géométrique, il est en contact à un point que le point de contact. Étant donné que seulement un peu de contact électrique positif, la force de contact des contacts n'ont pas besoin de beaucoup, ce qui peut se référer à la théorie de la déformation élastique pour analyser la performance des contacts sphériques fournir une base réaliste.

Besoin de contact avec le contact, la zone de contact apparente égale à la zone dans le cadre de l'accord contacts d'état fermé. Lorsque la zone de contact du matériau de contact était une véritable déformation élastique, elle peut être utilisée pour calculer la relation Hertz surface de contact apparente. Par la force de contact sphérique Fk dans le rôle de la pression dans le plan de l'analyse de contact, vous pouvez trouver le rayon de la zone de réception circulaire

Contact de bille en cuivre de tungstènes Facteurs d'effet de résistance

1. Pression de contact. C'est la résistance de contact Rj valeurs ont un impact majeur. L'augmentation de la pression de contact du rôle est d'augmenter la zone de contact efficace et les points de contact pour une inhibition maximale de l'impact de la résistance de contact du film de surface, de sorte que la résistance de contact et les résistances de film rétractable sont réduites, Est réduite d'une manière ou d'une autre.

2. Formulaire de contact. Système de charge de contact de type clip utilise une combinaison de compensation dynamique et la façon de multi-point de la structure de contact, sous-ongles et types de plaques.

3. Propriétés des matériaux. La nature constitue un contact électrique avec le matériau métallique, affecte directement la taille de la résistance de contact. La nature de ces matériaux comprend la résistivité, la résistance mécanique et la dureté et les propriétés chimiques du matériau. Lors de l'utilisation de matériaux de contact pour réduire la résistance au retrait et les résistances de film considérées.

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